به گزارش خبرنگار مهر، موج گسترش و پیشرفت در زمینه هوش مصنوعی، اهمیت ریزتراشههای پیشرفته را افزایش داده است. ریزتراشههای ۳ نانومتر اکنون پیشرفتهترین نسل ریزتراشهها میباشند در حالیکه شرکتهای بزرگ صنعت میکروالکترونیک مانندTSMC، یک شرکت بزرگ فناوری کرهای، اینتل و رپیدوس ساخت کارخانههای تولید ریزتراشه ۲ نانومتر را آغاز کردهاند.
برخی شرکتهای بزرگ به دنبال تولید انبوه ریزتراشههای ۲ نانومتر تا ۲۰۲۵
براساس گزارش تهیه شده در تحریریه برنامه ملی میکروالکترونیک معاونت علمی، فناوری و اقتصاد دانش بنیان ریاست جمهوری، TSMC و یک شرکت فناوری کرهای قصد دارند تولید انبوه ریزتراشههای ۲ نانومتر را تا سال ۲۰۲۵ شروع کرده و رپیدوس شرکتی که با حمایت غولهای فناوری ژاپنی تأسیس شده است تا ۲۰۲۵ عرضه آزمایشی ریزتراشههای ۲ نانومتر خود را آغاز میکند.
احتمالاً اینتل اولین شرکتی باشد که به تجاری سازی ریزتراشه ۲ نانومتری دست یابد
انتظار میرود TSMC و اینتل تا پایان امسال پروژه ساخت کارخانههای ریزتراشه با فناوری ۲ نانومتر را به اتمام برسانند. همچنین پیشبینی میشود اینتل اولین شرکتی باشد که تجاریسازی ریزتراشههای ۲ نانومتر را انجام میدهد. CPUهای Arrow Lake این شرکت از فناوری ۲ نانومتر استفاده خواهد کرد و ریزتراشههای ۲ نانومتر TSMC نیز در تلفنهای هوشمند نسل بعد شرکت اپل به کار گرفته خواهند شد.
تولید ازمایشی ریزتراشهها توسط یک شرکت تایوانی تا پایان ۲۰۲۴
راهاندازی تجهیزات تولید ریزتراشه با فناوری ۲ نانومتر شرکت تایوانی TSMC نیز شتاب گرفته است و کارخانه Fab ۲۰ P۱ این شرکت تجهیزات را در ماه جاری (آپریل) راهاندازی میکند و تولید آزمایشی ریزتراشه ۲ نانومتر آن تا پایان نیمه دوم سال ۲۰۲۴ و تولید ریزتراشه در مقیاس پایین تا چهارماهه دوم سال ۲۰۲۵ کلید خواهد خورد. اینتل نیز ماشین لیتوگرافی جدید خود را از ASML تحویل گرفته و فرایند تولید ریزتراشه ۲ نانومتر این شرکت نیز تسریع شده است.
استفاده از ریزتراشههای ۲ نانومتر در تلفنهای هوشمند در ۲۰۲۵
یکی از بزرگترین شرکتهای فناوری کرهای در زمینه تولید ریزتراشه، نقشه راه فناوری خود را منتشر کرده که نشان میدهد ریزتراشه ۲ نانومتر این شرکت برای تلفنهای هوشمند در سال ۲۰۲۵ و برای رایانههای HPC در سال ۲۰۲۶ بهصورت انبوه عرضه خواهد شد. این شرکت بازار خودرو را نیز برای سال ۲۰۲۷ هدف قرار داده است.
تولیدکنندگان ژاپنی کارخانه تولید ریزتراشه را میسازند
شرکت ژاپنی رپیدوس نیز در استان هوکایدو ژاپن اولین کارخانه تولید ریزتراشه ۲ نانومتر خود را میسازد. خط تولید آزمایشی این کارخانه قرار است در ماه آپریل ۲۰۲۵ آغاز به کار کند و در سال ۲۰۲۷ به تولید انبوه برسد. گزارشهای اخیر نشان میدهد برخی تولیدکنندگان ژاپنی محصولات و مواد اولیه برای تولید ریزتراشه، بهمنظور توسعه و تسریع تولید ریزتراشه با فناوری پیشرفته با رپیدوس همکاری میکنند.
بهطور مثال شرکت باسابقه DNP که در زمینه چاپ مدار و تولید ماسک فعالیت دارد، تولید انبوه ماسک برای ریزتراشه ۲ نانومتر را بهمنظور تأمین کارخانههای رپیدوس در سال ۲۰۲۷ کلید میزند. علاوه بر DNP، هلدینگ توپان نیز با همکاری IBM ماسکی برای ریزتراشههای ۲ نانومتر رپیدوس را توسعه میدهد که تا سال ۲۰۲۶ به تولید انبوه خواهد رسید. از دیگر شرکتهای ژاپنی که قرار است بهعنوان تأمینکننده رپیدوس فعالیت کنند میتوان از JSR، Tokyo Ohka Kogyo (TOK) و Shin-Etsu Chemicalنام برد.
ساخت ریزتراشههای ۱ نانو متر هدف بعدی سازندگان بزرگ
پس از ریزتراشههای ۲ نانومتر، ریزتراشههای ۱ نانومتر نیز هدف بعدی سازندگان بزرگ ریزتراشه میباشد. انتظار میرود صنعت میکروالکترونیک شاهد تولید انبوه ریزتراشههای ۱ نانومتری در بازه زمانی ۲۰۲۷ تا ۲۰۳۰ باشد.
برنامه TSMC رسیدن به فناوری ۱.۴ نانومتر تا سال ۲۰۲۷ و ۱ نانومتر تا سال ۲۰۳۰ میباشد. گزارشهای اخیر نشان میدهد این شرکت قصد دارد کارخانه تولید ریزتراشه ۱ نانومتری خود را در استان چیایی در مرکز تایوان احداث کند.
پیشبینی میشود یک شرکت فناوری کرهای در اواخر ۲۰۲۷ به فناوری ۱.۴ نانومتر دست یابد. فناوری ۱.۴ نانومتر این شرکت میتواند تعداد نانولایههای ریزتراشه را از ۳ به ۴ عدد برساند، موضوعی که انتظار میرود عملکرد ریزتراشه را بهبود و مصرف برق را کاهش دهد.
نقشه راه فناوری شرکت اینتل برای ریزتراشهها
نقشه راه فناوری اخیر شرکت اینتل نیز نشان میدهد ریزتراشه ۱.۴ نانومتر اینتل در سال ۲۰۲۶ تولید میشود و ریزتراشههای ۱ نانومتری این شرکت در اواخر ۲۰۲۷ توسعه داده شده یا تولید خواهند شد.
نقشه راه تولید ریزتراشه سازندگان بزرگ صنعت میکروالکترونیک